Nanoimprint Lithographie als Methode zur chemischen Oberflächenstrukturierung für Anwendungen in der Bioelektronik

Gilles, Sandra

Dissertation / PhD Thesis/Book

Nanoimprint Lithographie als Methode zur chemischen Oberflächenstrukturierung für Anwendungen in der Bioelektronik

Gilles, S. (Corresponding author)FZJ*

2010
Forschungszenrum Jülich GmbH Zentralbibliothek, Verlag Jülich
ISBN: 978-3-89336-686-6

Jülich : Forschungszenrum Jülich GmbH Zentralbibliothek, Verlag, Schriften des Forschungszentrums Jülich. Schlüsseltechnologien / Key Technologies 19, II, 169 S. (2010) = RWTH Aachen, Diss., 2010

Please use a persistent id in citations: http://hdl.handle.net/2128/4357

Abstract: Die Fähigkeit, Materialoberflächen im Mikro- und Nanometer-Bereich gezielt zu strukturieren, ist Voraussetzun für vielfältige Anwendungsgebete, darunter Elektronik, Optik, Sensorik udn Biotechnik. Konventionell werden für die Mikrostrukturerung Lithographie-Methoden verwendet, die Licht als strukturierendes Element nutzen (Photolitographie). Da die Photolitographie eine parallele Methode ist, bietet sie den Vorteil, auch ausgedehnte Bereiche zeiteffizient zu strukturieren. Die Auflösung $\textit{R}$ bei der Photolitographie ist begrenzt durch die Wellenlänge $\lambda$ der elekrromagnetischen Welle und der Apertur $\textit{A}$ des Systems. R = $\frac{\lambda}{2A}$ (1.1) Um eine hohe Auflösung zu erreichen, werden Lichtquellen mit Wellenlängen im Ultravioletten Bereich und darunter verwendet. Strukturen bis in den Bereich einzelner Nanometer zu erzeugen ist unter Verwendung elektromagnetischer Wellen nur mit erheblichem Aufwand möglich. Alternativ werden beschleunigte Elektronen, die Wellenlängen im Nanometer- bis $\mathring{A}$ngström-Bereich aufweisen, als hochauflösendes strukturierendes Element verwendet. Mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie können Strukturen bis in den Bereich einzelner Nanometer erzeugt werden. Nachteilig bei diesem Direktschreibverfahren ist die serielle Arbeitsweise, die einen geringen Durchsatz bedeutet. Neben den inzwischen etablierten Methoden der Photolitographie udn der Elektronenstrahllithographie entstanden in den letzten Jahren verschiedene neue Techniken zur hochaufgelösten Oberflächenstrukturierung wie Soft Lithographie [1], Dip-Pen Nanolithographie [2] und Nanomprint Lithographie [3,4]. Doe Nanoimprint Lithographie ist ein Prägeverfahren, bei der ein Stempel, der eine bestimmte Oberflächentopographie aufweist, als strukturoerendes Element verwendet wird. Diese Methode vereint die Vorteile von hoher Auflösung bis in der sub-10 nm Bereich, paralleler Arbeitsweise [...]

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